客戶項目使用圖:

美國 KRI 霍爾離子源 EH 3000 HC 主要技術參數:

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portant;"> 尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6” 放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A 可通氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 離子束發散角度：> 45° (hwhm) 水冷

應用結果：

1. 通過使用上海伯東 KRI 霍爾離子源EH 3000 HC輔助鍍全反射膜, 高均勻性及高致密性的膜層可以保障光源有效反射, 盡可能減少吸收. 

2. 直徑 2.2m 鍍膜腔, 僅需安裝1臺霍爾離子源 EH 3000 HC, 即可完成鍍膜, 直接降低企業成本!
 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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