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該制造商的離子束濺射鍍膜組成系統(tǒng)主要由濺射室、雙離子源、濺射靶、基片臺、真空氣路系統(tǒng)以及控制系統(tǒng)等部分組成.
離子源濺射離子源采用進口的 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380, 其參數(shù)如下:
伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù)：
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射頻離子源型號 |
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RFICP 380 |
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portant;">
Discharge 陽極 |
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射頻 RFICP |
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離子束流 |
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>1500 mA |
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離子動能 |
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100-1200 V |
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柵極直徑 |
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30 cm Φ |
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離子束 |
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聚焦 |
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流量 |
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15-50 sccm |
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portant;">
通氣 |
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
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< 0.5m Torr |
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長度 |
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39 cm |
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直徑 |
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59 cm |
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中和器 |
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LFN 2000 |
推薦理由：
1. 聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率
2. 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
其真空氣路系統(tǒng)真空系統(tǒng)需要沉積前本底真空抽到 8×10-4 Pa, 經(jīng)推薦采用伯東泵組 Hicube 80 Pro, 其技術(shù)參數(shù)如下：
分子泵組 Hicube 80 Pro 技術(shù)參數(shù):
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進氣法蘭 |
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氮氣抽速 |
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極限真空 hpa |
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前級泵 型號 |
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前級泵抽速 |
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前級真空 |
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DN 40 ISO-KF |
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35 |
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< 1X10-7 |
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Pascal 2021 |
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18 |
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AVC 025 MA |
運行結(jié)果：
- SiO_2薄膜沉積速率比以前更加快速
- 薄膜均勻性明顯提高
- 成膜質(zhì)量高、膜層致密、缺陷少
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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