登錄后方可查看聯系方式
KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:
|
portant;">
射頻離子源型號 |
portant;">
RFICP380 |
|
portant;">
Discharge 陽極 |
portant;">
射頻 RFICP |
|
portant;">
離子束流 |
portant;">
>1500 mA |
|
portant;">
離子動能 |
portant;">
100-1200 V |
|
portant;">
柵極直徑 |
portant;">
30 cm Φ |
|
portant;">
離子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
|
portant;">
流量 |
portant;">
15-50 sccm |
|
portant;">
通氣 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
portant;">
典型壓力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
|
portant;">
長度 |
portant;">
39 cm |
|
portant;">
直徑 |
portant;">
59 cm |
|
portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
該復合磁控濺射沉積裝置主要包含：
1. 濺射源-KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380
2. 清洗源-KRI 霍爾離子源 eH3000
3. 高功率脈沖磁控濺射電源
4. 真空泵- Pfeiffer 分子泵 HiPace700
5. 基臺
KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
[email protected] [email protected]
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權所有, 翻拷必究!
