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一種滾筒拋光機上使用的MC尼龍拋光磨粒及其制備方法

關鍵詞 拋光機 , 磨粒 , MC尼龍|2014-08-06 09:46:34|行業(yè)專利|來源 中國磨料磨具網
摘要 申請?zhí)枺?01210390909.3申請日:2012-10-16摘要:一種滾筒拋光機上使用的MC尼龍拋光磨粒及其制備方法,其特征在于:所述MC尼龍拋光磨粒
       申請?zhí)枺?01210390909.3     申請日:2012-10-16

       摘要:一種滾筒拋光機上使用的MC尼龍拋光磨粒及其制備方法,其特征在于:所述MC尼龍拋光磨粒的組成成分及質量百分比為:己內酰胺單體60%~90%,懸浮、增稠劑0.5%~5%,磨料5%~20%,氧化鈰0%~10%。本發(fā)明的MC尼龍拋光磨粒具有優(yōu)良的耐磨性和拋光效率,同時被拋光工件表面碎屑與拋光磨粒分離容易,可用于金屬、木材、石材、玻璃、陶瓷、塑料等制品表面進行的拋光處理。

       申請人: 河南工業(yè)大學     廣東創(chuàng)匯實業(yè)有限公司
       地址: 450001 河南省鄭州市鄭州高新技術產業(yè)開發(fā)區(qū)蓮花街
       發(fā)明(設計)人: 張琳琪   楊家聯(lián)   彭進   夏紹靈   鄒文俊   鄭紅娟
       主分類號: C09G1/02(2006.01)I
       分類號: C09G1/02(2006.01)I C09K3/14(2006.01)I C08G69/18(2006.01)I
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