申請?zhí)? 201621040511.7
主分類號: C23C 16/32(2006.01)
申請人: 江蘇協(xié)鑫特種材料科技有限公司
發(fā)明人: 蔣文武; 蔣立民; 田新; 于偉華; 張春偉
摘要：
       本實(shí)用新型提供了一種石墨表面沉積碳化硅的裝置系統(tǒng)，包括凈化第一工位和反應(yīng)第一工位，其中，所述凈化第一工位安裝有石墨凈化爐，所述反應(yīng)第一工位安裝有CVD反應(yīng)爐，石墨凈化爐和CVD反應(yīng)爐均為上固定結(jié)構(gòu)，即所述石墨凈化爐的爐筒和CVD反應(yīng)爐的爐筒分別通過支架固定在地面上，石墨凈化爐的爐底盤和CVD反應(yīng)爐的爐底盤分別坐落在一升降臺上，升降臺通過上升使得爐筒和爐底盤緊密配合。 主權(quán)利要求：
       1.一種石墨表面沉積碳化硅的裝置系統(tǒng)，其特征在于，包括凈化第一工位(1)和反應(yīng)第一工位(2)，所述凈化第一工位(1)安裝有石墨凈化爐(3)，所述反應(yīng)第一工位(2)安裝有CVD反應(yīng)爐(5)，石墨凈化爐(3)和CVD反應(yīng)爐(5)均為上固定結(jié)構(gòu)，即所述石墨凈化爐(3)的爐筒和CVD反應(yīng)爐(5)的爐筒分別通過支架固定在地面上，石墨凈化爐(3)的爐底盤和CVD反應(yīng)爐(5)的爐底盤分別設(shè)置在一升降臺上，石墨凈化爐(3)的爐底盤的升降臺通過上升使得石墨凈化爐(3)的爐筒和爐底盤緊密配合，CVD反應(yīng)爐(5)的爐底盤的升降臺通過上升使得CVD反應(yīng)爐(5)的爐筒和爐底盤緊密配合。