摘要 集成電路領(lǐng)域的高端裝備國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程又進(jìn)一步。記者從清華控股有限公司獲悉:由清華大學(xué)科技成果成功轉(zhuǎn)化的國(guó)內(nèi)首臺(tái)12英寸化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)近日交付使用。該產(chǎn)品擁有多區(qū)拋光頭、直驅(qū)高精度拋光盤...
集成電路領(lǐng)域的高端裝備國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程又進(jìn)一步。記者從清華控股有限公司獲悉:由清華大學(xué)科技成果成功轉(zhuǎn)化的國(guó)內(nèi)首臺(tái)12英寸化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)近日交付使用。該產(chǎn)品擁有多區(qū)拋光頭、直驅(qū)高精度拋光盤、終點(diǎn)檢測(cè)等多項(xiàng)核心技術(shù),主要性能指標(biāo)達(dá)到了當(dāng)前國(guó)際同類產(chǎn)品的先進(jìn)水平。與國(guó)外同類產(chǎn)品相比,其技術(shù)先進(jìn)、性能穩(wěn)定、成本更低,具有明顯的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

國(guó)內(nèi)首臺(tái)12英寸化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)Universal-300
化學(xué)機(jī)械拋光是通過(guò)使用化學(xué)腐蝕和機(jī)械作用對(duì)加工過(guò)程中的晶圓進(jìn)行平坦化處理,以便獲得納米級(jí)別的平整表面,是集成電路制造工藝中的五大關(guān)鍵技術(shù)之一。在國(guó)家科技重大專項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路平坦化工藝與材料”的支持下,清華大學(xué)研制出了國(guó)內(nèi)首臺(tái)12英寸“干進(jìn)干出”銅制程拋光機(jī),主要技術(shù)指標(biāo)達(dá)到或者超過(guò)國(guó)外最先進(jìn)產(chǎn)品的水平。清華控股成員企業(yè)天津華海清科機(jī)電科技有限公司接受清華大學(xué)的技術(shù)轉(zhuǎn)讓,擁有了化學(xué)機(jī)械拋光的核心技術(shù),在國(guó)內(nèi)率先具備研發(fā)和生產(chǎn)12英寸前段和后段拋光整機(jī)設(shè)備的能力。近日,華海清科首臺(tái)12英寸化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)交付中芯國(guó)際,標(biāo)志著國(guó)內(nèi)12英寸化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)已進(jìn)入大型生產(chǎn)線。