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磁性陰極濺射比普通陰極濺射具有以下優(yōu)點(diǎn)

關(guān)鍵詞磁控濺射|2011-06-28 16:03:16|基礎(chǔ)知識(shí)|來源中國磨料磨具網(wǎng)

摘要 1．成膜速率提高（電離率高，放電電流大）。2．基體溫升降低。3．磁控濺射的空間局限于靶與基體之間，粒子到達(dá)基體的準(zhǔn)確度高，不需要的部位沒有。因此真空容器容易清洗，操作方便。4．膜層...

　　1．成膜速率提高（電離率高，放電電流大）。
　　2．基體溫升降低。
　　3．磁控濺射的空間局限于靶與基體之間，粒子到達(dá)基體的準(zhǔn)確度高，不需要的部位沒有。因此真空容器容易清洗，操作方便。
　　4．膜層致密，并且與基體結(jié)合力強(qiáng)。這是因?yàn)榇趴貫R射產(chǎn)生的靶原子的能量高。

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