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拋光軌跡是影響拋光性能的根本因素

關鍵詞 拋光 , 研磨|2014-08-11 10:01:11|應用技術|來源 互聯網
摘要 拋光精度,即拋光性能,是平面拋光機采購商及供貨商共同關注的焦點。拋光軌跡是影響拋光性能根本的影響因素。平面拋光機的拋光軌跡根據加工工件及加工盤的不同相對運動,有定偏心研磨軌跡、不定...
       拋光精度,即拋光性能,是平面拋光機采購商及供貨商共同關注的焦點。拋光軌跡是影響拋光性能根本的影響因素。

       平面拋光機的拋光軌跡根據加工工件及加工盤的不同相對運動,有定偏心研磨軌跡、不定偏心研磨軌跡、直線式研磨軌跡、搖擺式研磨軌跡、方形分形研磨軌跡,行星式研磨軌跡等等。

       定偏心研磨軌跡的工件材料去除均勻性較差,越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直徑不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨拋光機就是這種。

       不定偏心式研磨軌跡,其均勻性明顯好于定偏心式軌跡,有利于工件面形精度的提高。適合于直徑大于200mm的大尺寸工件的加工。量產型鏡面拋光機的研磨拋光軌跡就是這種類型。

       直線式研磨使用的不是拋光盤,而是具有柔性的砂帶,工件做單純的回轉運動。平面研磨拋光機自修整機構的刀具在研磨盤上的軌跡也就是這種。此種運動形式簡單,如將研磨帶加長可以形成批量生產,生產效率高。

       搖擺式研磨軌跡比定偏心雙軸式或直線式研磨更均勻。軌跡在加工面中心呈幾種的趨勢,是工件加工面中心處有凹陷的現象。

       行星式平面研磨運動軌跡最常見用于雙面研磨機,當改變研磨盤轉速和太陽轉速之比時,工作效率及材料去除率會發生變化。
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