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KRI考夫曼射頻離子源RFICP140應(yīng)用AlTiN涂層研究

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KRI考夫曼射頻離子源RFICP220濺射制備堵片傳感器薄膜

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考夫曼射頻離子源RFICP220濺射制備類金剛石Ta-C涂層

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考夫曼射頻離子源RFICP220輔助磁控濺射沉積Cu-W 膜

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KRI離子源廣泛用于鍍膜半導(dǎo)體航天等各個領(lǐng)域推進科技與科學(xué)

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伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 應(yīng)用于離子刻蝕 IBE

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伯東 KRI 離子源用于輔助 5G 技術(shù)-陶瓷手機蓋板鍍膜

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伯東 KRI 離子源成功應(yīng)用于離子濺射鍍膜 (IBSD)

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伯東KRI 霍爾離子源 EH400 HC用于離子刻蝕 IBE

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KRI霍爾離子源EH 3000HC用于輔助天文望遠鏡鏡片鍍膜

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KRI霍爾離子源EH 4200輔助鍍膜IBAD用于PC預(yù)清潔

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KRI 考夫曼霍爾離子源輔助光學(xué)鍍膜

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伯東 KRI 霍爾離子源 EH 5500輔助手機殼顏色鍍膜

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伯東 KRI Gridded 考夫曼離子源用于離子束拋光工藝

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伯東KRI射頻離子源RFICP 325輔助LED-DBR鍍膜

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EH 3000HC應(yīng)用于天文望遠鏡片離子輔助鍍膜工藝IBAD

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KRI 霍爾離子源控制器成功替換取代 Veeco 控制器

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伯東 KRI霍爾離子源在樣品清洗前處理中的應(yīng)用

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射頻離子源RFICP 380輔助離子束濺射鍍制SiO_2薄膜

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采購訂單編號：No.7920       發(fā)布時間：2021-01-27

KRI射頻離子源RFICP 220輔助磁控濺射鍍制3D玻璃膜

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